Hoogprecisie JGS1 JGS2 Gesmolten Silica Glas Optisch Component

Zeer Nauwkeurige JGS1 JGS2 Gesmolten Silica Glas Optische Component

1. Materiaalsamenstelling

• JGS1 Gesmolten Silica: Synthetisch kwartsglas met uitzonderlijke ultraviolette (UV) transmissie, met name in het diepe UV-bereik (185-250 nm), en een laag hydroxyl (OH) gehalte.

• JGS2 Gesmolten Silica: Synthetisch kwartsglas met superieure infrarood (IR) transmissie en hogere thermische stabiliteit, met een hoger hydroxylgehalte voor verschillende optische prestaties.

• Zeer Nauwkeurige Fabricage: Componenten worden vervaardigd met behulp van geavanceerde CNC-slijp-, diamantdraai- en polijsttechnieken om submicron oppervlakteprecisie en nauwe dimensionale toleranties te bereiken.

2. Belangrijkste Optische & Fysische Eigenschappen

• Spectrale Transmissiebereik:

  • JGS1: Uitstekende transmissie van 185 nm (Diep UV) tot 2,5 µm (Nabij-IR).

  • JGS2: Uitstekende transmissie van 260 nm (UV) tot 3,5 µm (Midden-IR).

• Thermische & Mechanische Stabiliteit: Extreem lage thermische uitzettingscoëfficiënt (0,55 x 10⁻⁶/K), hoge thermische schokbestendigheid en sterke mechanische duurzaamheid.

• Oppervlaktekwaliteit: Kan laser-grade oppervlakteafwerkingen bereiken (bijv. λ/10 vlakheid, 10-5 kras-put) met minimale schade onder het oppervlak.

• Laser Schadebestendigheid: Hoge drempelwaarde geschikt voor excimeer-, UV- en hoogvermogen laser toepassingen.

3. Kernfuncties

• Precisie Lichttransmissie & Controle: Manipuleert UV tot IR licht met minimale golfvoortgangsvervorming, verstrooiing of absorptie.

• Straalsturing & Focussering: Dient als zeer nauwkeurige lenzen, vensters, prisma's en spiegels in complexe optische paden.

• Omgevings- & Thermische Barrière: Beschermt gevoelige interne optiek in volatiele omgevingen en behoudt tegelijkertijd stabiliteit over een breed temperatuurbereik.

• Systeem Kritische Interface: Zorgt voor optimale prestaties in toepassingen die exacte optische uitlijning en minimaal signaalverlies vereisen.

4. Primaire Toepassingen

• Halfgeleider Fotolithografie: Kritische componenten in steppers en scanners die diepe UV (DUV) lasers gebruiken.

• Hoogvermogen Lasersystemen: Vensters, lenzen en straalafleideroptiek voor excimeer-, Nd:YAG- en fiberlasers.

• Astronomie & Ruimtevaart Optiek: Telescoopspiegels, satellietlenzen en spectrometercomponenten die thermische stabiliteit vereisen.

• Analytische & Life Science Instrumenten: UV-Vis spectrofotometercellen, fluorescentiedetectorvensters en microscoopoptiek.

• Industriële Metrologie & Inspectie: Precisie-optiek voor laserinterferometers, wafer inspectiesystemen en optische coördinatenmeetmachines.