Substraten voor glazen schijven met kritische optische vlakheid voor dunne-film afzetting

Substraten voor glazen schijven met kritische optische vlakheid voor dunne-film afzetting

Materiaal

• Glas van hoge zuiverheid: Meestal gemaakt van gesmolten silica (JGS1/JGS2), borosilicaat of kwarts, geselecteerd voor zeer lage thermische expansie en chemische traagheid.

  • gesmolten silicium: Geprefereerd vanwege zijn uitzonderlijke homogeniteit, lage OH-gehalte en weerstand tegen thermische schokken.

  • Borosilicaat: kosteneffectief alternatief met matige thermische stabiliteit en goede oppervlaktepoetsbaarheid.

• Oppervlakte kwaliteit: ontworpen met een vlakheid van λ/10 tot λ/20 om minimale afwijking voor precisiecoatings te garanderen.

Belangrijkste eigenschappen

1. Optische vlakheid: Vlakheid van het oppervlak ≤ λ/10 (bij 632,8 nm), cruciaal voor een uniforme dunne-film afzetting en het minimaliseren van wavefront vervorming.

2. Thermische stabiliteit: Een lage coëfficiënt van thermische uitbreiding (bijv. 0,55 x 10−6/°C voor gesmolten silica) voorkomt vervorming bij hoogtemperatuurprocessen zoals CVD of sputtering.

3. Chemische weerstand: Inert voor zuren, plasma's en oplosmiddelen, waardoor duurzaamheid in agressieve afzettingsomgevingen wordt gewaarborgd.

4. Oppervlakte-homogeniteit: Eenvormigheid van de brekingsindex (±5 x 10−6) voorkomt optische vervormingen in gecoate films.

5. Mechanische duurzaamheid: Hoge hardheid (Mohs 5 ̊7) bestand tegen krassen tijdens het hanteren en verwerken.

Functie

• Substraat met dunne film: Biedt een ultravlakke, stabiele basis voor het afzetten van coatings (antireflecterend, dielektrisch, metaal).

• Procescompatibiliteit: Compatibel met PVD-, CVD-, ALD- en sputteringtechnieken, zodat de film gelijkmatig hecht en dik is.

• Metrologische referentie: dient als kalibratie-standaard voor interferometers en oppervlakteprofilers vanwege de precieze vlakheid.

Toepassingen

• Vervaardiging van halfgeleiders: fotomaskers, EUV-lithografische spiegels en optische MEMS-apparaten.

• Optische industrie: Gecoate filters, straalsplitters en laseroptica die nauwkeurigheid op nanometerniveau vereisen.

• Onderzoek en ontwikkeling: Nanotechnologie, fotonica en quantumcomputing experimenten.

• Luchtvaart en defensie: nauwkeurige sensoren, satellietoptica en lasergeleidingssystemen.

• Medische hulpmiddelen: Optische coatings voor beeldsystemen, endoscopen en diagnostische apparatuur.