|
Productdetails:
|
Shape: | Flat or Round | Surface: | Optical grade |
---|---|---|---|
Transmission: | >90% for visible light | Verpakkingen: | Beschikbaar |
Processing: | Polishing | OEM's: | Beschikbaar |
Markeren: | Precision Optics Gesmolten Silica Glas schijven,UV-gesmolten glasplaten van silicium |
UV-gesmolten siliciumglasschijven voor precisie-optica en lasersystemen
Materiaal
UV-gesmolten silica: Synthetisch glas, samengesteld uit siliciumdioxide (SiO2) van hoge zuiverheid, geoptimaliseerd voor de overdracht van ultraviolette straling (UV).
Graden: omvat JGS1 (diepe UV-transparantie, 185 ∼2500 nm) en JGS2 (220 ∼2500 nm), waarbij prestaties en kosten in evenwicht worden gebracht.
Zuiverheid: Een laag gehalte aan metaalverontreinigingen en hydroxyl (OH) zorgen voor minimale absorptie in het UV-spectrum.
Belangrijkste eigenschappen
UV-transparantie: Uitzonderlijke transmissie van diepe UV naar nabij-infrarood (NIR), cruciaal voor UV-lasertoepassingen.
Thermische stabiliteit: lage thermische uitbreiding (≈0,55 x 10−6/°C) weerstaat vervorming bij hoge laservermogen of temperatuurschommelingen.
Chemische weerstand: Inert voor zuren, oplosmiddelen en plasma's, ideaal voor harde industriële omgevingen.
Drempel van laserschade: Hoge weerstand tegen door de laser veroorzaakte schade, geschikt voor pulserende en continue golflasers.
Oppervlakte kwaliteit: Gepolijst tot λ/10 vlakheid met minimale ondergrondse defecten, waardoor een nauwkeurige straalregeling wordt gewaarborgd.
Homogeniteit: Eenvormige brekingsindex (±5 x 10−6) voor vervormingvrije optica.
Functie
Optische ramen: Transmitteren van UV-licht en beschermen van gevoelige componenten tegen omgevingsfactoren.
Substraten: dienen als basis voor coatings (anti-reflectief, dielectrisch) in spiegels, filters of straalsplitters.
Beamlevering: Behoud van de integriteit van de straal in laserholtes, collimatoren en scherpstellingssystemen.
Optische platte oppervlakken: Referentieplaatsen voor interferometrie en kalibratie worden verstrekt.
Toepassingen
Lasersystemen: UV-excimerlasers, Nd:YAG-systemen en femtosecondelasers voor straalgeleiding en uitgangsvensters.
Lithografie met halfgeleiders: Toediening van UV-licht in fotolithografische maskers en stapsystemen.
Precision Optics: Spiegels voor telescopen, microscopen en interferometers.
Medische hulpmiddelen: UV-sterilisatieapparatuur, laserchirurgische hulpmiddelen en beeldvorming.
Luchtvaart en defensie: UV-sensoren, LIDAR-systemen en HEL-toepassingen.
Onderzoek: Spectroscopie, UV-fotonica en quantumoptische experimenten.
Naam | Glasplaat, glaswafer |
Materiaal | Optisch glas, Qurartz glas, Pyrex glas, borosilicaat glas, Float glas, borofloat |
Diametertolerantie | +0/-0,2 mm |
Dikte Tolerantie | +/- 0,2 mm |
Verwerkt | Door te snijden, slijpen, temperen, polijsten |
Werktemperatuur | Weerstand tegen hoge temperatuurschokken |
Oppervlakte kwaliteit | 80/50,60/40,40/20 |
Materiële kwaliteit | Geen schrammen en luchtbelletjes. |
Transmissie | > 92% voor zichtbaar licht |
Chamfer | 0.1-0.3 mm x 45 graden |
Oppervlaktecoating | Beschikbaar |
Gebruik | Fotografie, verlichtingssysteem, industriegebied. |
Contactpersoon: Mr. Dai
Tel.: +86-13764030222
Fax: 86-21-58508295